下一代光刻技术的设备

• 作者: 翁寿松
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 下一代光刻技术 X射线光刻技术 极紫外线光刻技术 纳米压印光刻技术
• 年，卷（期）: 2004,（10）
• 所属期刊栏目: 专题报导
• 页码范围: 35-38
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3160字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2004.10.009

摘要

下一代光刻技术是指≤32 nm工艺节点的光刻技术.介绍了下一代光刻技术与设备,包括X射线光刻技术、极紫外线光刻技术和纳米压印光刻技术等.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	翁寿松		95	534	13.0	18.0