对激光烧蚀沉积Ag薄膜生长率和环境气压关系的理论解析

• 作者: 傅广生 周阳 张荣梅 彭英才 王英龙 褚立志
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜物理学 Ag薄膜沉积 脉冲激光烧蚀
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 光束传输与控制,材料、薄膜及元器件
• 页码范围: 516-518
• 页数: 3页
• 分类号: O484.1
• 字数: 1311字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2004.z1.171

摘要

为了对激光烧蚀沉积Ag薄膜生长率和环境气压关系进行定量解释,考虑烧蚀产物在惰性气体环境中的动力学过程以及薄膜生长的沉积和二次溅射过程,并假定二次溅射几率正比于入射粒子的动能,建立了激光烧蚀沉积纳米薄膜生长的动力学模型.定量地解释了T.Scharf等人在惰性气体He,Ne,Ar,Xe环境下烧蚀沉积Ag膜的实验结果,所出现偏差乃计及大颗粒所致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅广生	河北大学物理科学与技术学院	184	817	13.0	17.0
2	彭英才	河北大学物理科学与技术学院	103	593	12.0	19.0
3	褚立志	河北大学物理科学与技术学院	47	155	7.0	10.0
4	王英龙	河北大学物理科学与技术学院	96	301	9.0	12.0
5	周阳	河北大学物理科学与技术学院	21	130	7.0	11.0
6	张荣梅	河北大学物理科学与技术学院	5	17	2.0	4.0