浸没式光刻的优势和可行性

• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 193 nm光刻 浸没透镜曝光 折射率 数值孔径
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 专题报道(光刻技术与设备)
• 页码范围: 10-14,18
• 页数: 6页
• 分类号: TN350.7
• 语种: 中文

摘要

浸没式光刻通过高折射率的液体充入透镜底部和片子之间的空间使光学系统的数值孔径具有显著的优势.在193 nm曝光系统中,水(折射率为1.44)被选作最佳的浸入液体.通过成像模拟,现已证明ArF(193nm)浸没式光刻(M=1.05～1.23)与F2(157 nm)干法(NA=0.85～0.93)光刻具有几乎相同的成像性能.结合流体力学和热模拟结果,讨论了ArF浸没式曝光设备的优势和可行性.