封闭式匀胶显影设备的结构与技术优势

• 作者: 徐春旭 杨进录
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 封闭式 空气过滤系统 气流导向系统 嵌入式 片盒站 化学品供应站
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 新设备与新技术
• 页码范围: 70-73
• 页数: 4页
• 分类号: TN305
• 字数: 3925字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2004.04.021

摘要

介绍了KINGSEMI封闭式晶片处理系统.它是满足深亚微米光刻工艺要求的Cluster结构.有占地小,采用空气过滤(MFC)及气流导向(FFU)等控制系统,对局部环境进行温湿度控制等优点;智能型化学品自动供应站精确地控制光刻胶、显影液等化学试剂的用量.片盒站机械手和工艺单元机器人联合传送晶片,准确、安全、快捷;备有容纳4个片架盒的片盒站,可同时处理两种不同尺寸的晶片.嵌入式控制软件,Windows NT操作系统,构成良好的人机界面,操作方便.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐春旭		4	11	2.0	3.0
2	杨进录		2	15	2.0	2.0