光学材料微缺陷引起的损伤机理及后处理

• 作者: 周礼书 柴立群 王毅 石琦凯 胡建平 许乔
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 工学
• 关键词: 损伤机理 光学材料 后处理 微缺陷 时域有限差分方法 激光损伤阈值 光学元件 电磁场分布
• 年，卷（期）: zggcwlyjykjnb_2004,（1）
• 页码范围: 173-174
• 页数: 2页
• 分类号: TN204

摘要

采用时域有限差分方法（FDTD）进行元件表面微结构电磁场分布的数值模拟；同时实验分析了化学湿法刻蚀对光学元件表面面形及粗糙度、激光损伤阈值等的影响。