LiF层对ITD/Alq3/LiF:Al器件性能的影响

• 作者: 彭景翠 李宏建 瞿述 许雪梅 赵楚军
• 来源期刊: 光电子·激光
• 学科: 工学
• 关键词: 界面 有机电致发光 LiF 发光亮度
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 光电子器件和系统
• 页码范围: 572-574
• 页数: 3页
• 分类号: TN373.1
• 字数: 1663字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-0086.2004.05.017

摘要

分别制备了4种有机电致器(OLEDs):ITO/Alq3/Al;ITO/Alq3/LiF(1.0nm):Al;ITO/Alq3/LiF(1.5 nm):Al;ITO/Alq3/LiF:(2.0 nm)Al.研究了LiF的引入对金属电极与发光层界面的影响以及各种不同的界面态对器件发光性能的影响.研究结果表明:适当的LiF厚度的引入不仅可以改善器件的界面特性,而且可以提高器件的发光亮度及发光效率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李宏建	湖南大学应用物理系	66	440	12.0	18.0
2	彭景翠	湖南大学应用物理系	110	891	16.0	26.0
3	许雪梅	中南大学物理科学与技术学院	56	455	12.0	18.0
5	瞿述	湖南大学应用物理系	29	178	7.0	12.0
8	赵楚军	湖南大学应用物理系	30	110	7.0	9.0