成像干涉光刻技术及其频域分析

• 作者: 冯伯儒 刘娟 张锦
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 成像干涉光刻 空间频率 频域分析
• 年，卷（期）: 2004,（10）
• 所属期刊栏目: 微细加工光学技术
• 页码范围: 24-27
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2963字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2004.10.007

摘要

传统光学光刻技术(OL)由于其固有的限制,虽然可对任意图形成像,但分辨力较低.无掩模激光干涉光刻技术(IL)的分辨力可达λ/4,却局限于周期图形.成像干涉光刻技术(IIL)结合了二者的优点,用同一个系统分次传递物体不同的空间频率,能更有效地传递物体的信息,以高分辨力对任意图形成像.初步模拟研究表明,在同样的曝光波长和数值孔径下,对同样特征尺寸的掩模图形,IIL得到的结果好于OL.在CD=150nm时,IIL相对于OL把分辨力提高了1.5倍多.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘娟	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	43	249	9.0	13.0
5	张锦	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	26	204	8.0	13.0
6	冯伯儒	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	30	293	9.0	16.0