50 nm分辨力极端紫外光刻物镜光学性能研究

• 作者: 李艳秋
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 应用光学 光学设计 极端紫外光刻 下一代光刻
• 年，卷（期）: 2004,（7）
• 所属期刊栏目: 应用光学
• 页码范围: 865-868
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2501字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2004.07.001

摘要

极端紫外光刻(EUVL)作为实现100～32 nm特征尺寸微细加工的优选技术,其光刻物镜的光学性能是实现高分辨图形制作的关键.利用光学设计软件CODE V对6枚非球面反射镜构成的光刻物镜设计和光学性能分析,其分辨力可以实现50 nm,曝光面积为26 mm×1 mm.结果表明,光学性能对曝光场点的依赖关系.在全曝光场中进行了光学性能分析,其最大畸变为3.77 nm,最大波面差为0.031λ(均方根值),该缩小投影物镜完全可以满足下一代极端紫外光刻机的性能要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李艳秋	中国科学院电工研究所	35	388	12.0	18.0