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摘要:
深紫外光刻是目前集成电路制造的主流方法,为实现更小的元件特征尺寸,必须采用浸没式投影物镜以提高光学系统的分辨率,由此向其中的薄膜光学元件提出了众多苛刻的要求.本文介绍了适用于浸没式光刻系统的薄膜材料及膜系设计,以及高NA光学系统所需的大角度保偏膜系;对物镜中最关键的浸液薄膜的液体环境适应性、疏水及防污染等关键问题进行了讨论;对衡量浸没式光刻系统性能的重要因素镀膜元件激光辐照寿命,尤其是浸液环境下的元件辐照寿命进行了分析.
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文献信息
篇名 浸没式光刻投影物镜光学薄膜
来源期刊 中国光学 学科 物理学
关键词 浸没式光刻 光学薄膜 膜系设计 环境适应性 激光辐照寿命
年,卷(期) 2018,(5) 所属期刊栏目 光学功能材料
研究方向 页码范围 745-764
页数 20页 分类号 O484
字数 10408字 语种 中文
DOI 10.3788/CO.20181105.0745
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张立超 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所超精密光学工程研究中心 31 306 10.0 16.0
3 时光 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所超精密光学工程研究中心 9 38 4.0 6.0
5 毕丹丹 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所超精密光学工程研究中心 2 8 1.0 2.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
浸没式光刻
光学薄膜
膜系设计
环境适应性
激光辐照寿命
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国光学
双月刊
2095-1531
22-1400/O4
大16开
吉林省长春市东南湖大路3888号
12-140
1985
chi
出版文献量(篇)
2372
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8
总被引数(次)
11606
论文1v1指导