高折射率材料吸收特性对193 nm HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2,Al2O3/SiO2多层膜反射特性的影响

• 作者: 易葵 汤兆胜 范正修 袁景梅 邵建达
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 折射率 消光系数 吸收系数
• 年，卷（期）: 2004,（12）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1469-1472
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 1524字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2004.12.015

摘要

由单层HfO2,SiO2,Y2O3,Al2O3膜求出其折射率和消光系数色散曲线,据此计算出HfO2/SiO2,Y2O3/SiO2,Al2O3/SiO2的193 nm多层膜反射膜曲线,并用电子束热蒸发的方法进行镀制.由分光光度计测量样品的透射率和绝对反射率,求出了各种膜层的吸收曲线.结果发现HfO2/SiO2,Al2O3/SiO2反射率实验结果与理论结果吻合得很好,而Y2O3/SiO2的理论曲线偏高.通过模拟Y2O3/SiO2的反射率曲线发现Y2O3的消光系数远大于由单层膜实验得出的结果.这说明Y2O3膜层的吸收特性与薄膜的制备工艺密切相关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	212	2131	21.0	29.0
2	易葵	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	67	518	14.0	18.0
3	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	203	2312	23.0	32.0
4	袁景梅	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	7	129	6.0	7.0
5	汤兆胜	中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心	20	201	7.0	14.0