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摘要:
简述了氮化硼的优异性能和广阔的应用前景,概述了氮化硼薄膜的制备方法,分析了薄膜制备过程中的影响因素,最后对氮化硼薄膜今后的研究方向提出展望.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 氮化硼薄膜制备技术研究进展
来源期刊 材料导报 学科 工学
关键词 氮化硼 薄膜 等离子体 物理气相沉积 化学气相沉积
年,卷(期) 2005,(z2) 所属期刊栏目 电、磁功能材料
研究方向 页码范围 290-292
页数 3页 分类号 TB3
字数 4393字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1005-023X.2005.z2.091
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 贾铁昆 武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室 6 18 2.0 4.0
2 王为民 武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室 76 564 14.0 20.0
传播情况
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二级参考文献  (2)
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1997(1)
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2000(1)
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2005(0)
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2012(1)
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2014(1)
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研究主题发展历程
节点文献
氮化硼
薄膜
等离子体
物理气相沉积
化学气相沉积
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
材料导报
半月刊
1005-023X
50-1078/TB
大16开
重庆市渝北区洪湖西路18号
78-93
1987
chi
出版文献量(篇)
16557
总下载数(次)
86
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