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摘要:
SY508-3-59[篇名]A Self-Aligned, Electrically Separable Double-Gate MOS Transistor Technology for Dynamic Threshold Voltage Application,SY508-3-60[篇名]Anomalous phosphorous diffusion,……
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退火
拉伸试验
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 高温退火
来源期刊 热处理工艺与设备:英文版 学科 工学
关键词 高温退火 极限压力 电子自排列 MOS转换器 化学真空沉积
年,卷(期) 2005,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 13-15
页数 3页 分类号 TG156.2
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研究主题发展历程
节点文献
高温退火
极限压力
电子自排列
MOS转换器
化学真空沉积
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
热处理工艺与设备:英文版
双月刊
北京市百万庄大街22号
出版文献量(篇)
83
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