S-RRC中膜厚均一性的实现

• 作者: 张嘉祺 武建宏
• 来源期刊: 集成电路应用
• 关键词: 光刻胶 涂布 SRRC
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 技术与工艺
• 页码范围: 62-66
• 页数: 5页
• 字数: 5148字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-2583.2005.01.022

摘要

本文主要介绍了通过采用S-RRC(SUPPER REDUCED RESIST CONSUMPTION)技术来进行光刻胶膜厚均匀性的调整,从而降低光刻涂胶中光刻胶的使用量,最终达到降低光刻成本目的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	武建宏		1	0	0.0	0.0
2	张嘉祺	朗讯科技(中国)有限公司上海办事处	1	0	0.0	0.0