聚焦离子束曝光技术

• 作者: 顾文琪 马向国
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 聚焦离子束 液态金属离子源 曝光
• 年，卷（期）: 2005,（12）
• 所属期刊栏目: 光刻技术
• 页码范围: 56-58
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2173字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2005.12.015

摘要

聚焦离子束技术是一种集形貌观测、定位制样、成份分析、薄膜淀积和无掩模刻蚀各过程于一身的新型微纳加工技术.它大大提高了微电子工业上材料、工艺、器件分析及修补的精度和速度,目前已经成为微电子技术领域必不可少的关键技术之一.对聚焦离子束曝光技术作了介绍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾文琪	中国科学院电工研究所	53	189	8.0	11.0
2	马向国	中国科学院电工研究所	15	74	4.0	8.0