同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚

• 作者: 吴忠华 尼启良 崔明启 巩岩 赵屹东 陈波
• 来源期刊: 高能物理与核物理
• 学科: 物理学
• 关键词: 同步辐射光源 掠出射 X射线荧光 薄膜
• 年，卷（期）: 2005,（11）
• 所属期刊栏目: 同步辐射,自由电子激光,核技术应用等
• 页码范围: 1104-1106
• 页数: 3页
• 分类号: O57
• 字数: 3015字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0254-3052.2005.11.016

摘要

掠射X射线荧光分析为薄层和多层膜特性分析提供了潜在的可能.尤其是可以探测膜层厚度、界面形貌和组成.以北京同步辐射光源作激发光源,采用掠出射方法测试了Si基片上不同厚度的单层Cr膜样品,测试结果与理论计算基本符合.同时观察到一定厚度的薄膜样品产生的掠出射X射线荧光的干涉现象.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	崔明启	中国科学院高能物理研究所	33	149	7.0	11.0
2	赵屹东	中国科学院高能物理研究所	39	144	7.0	9.0
3	吴忠华	中国科学院高能物理研究所	34	146	8.0	10.0
4	巩岩	应用光学国家重点实验室中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	8	137	6.0	8.0
5	陈波	应用光学国家重点实验室中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	13	103	6.0	10.0
6	尼启良	应用光学国家重点实验室中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	11	101	6.0	10.0