离子束刻蚀处理CLBO晶体抛光表面的研究

• 作者: 沈光球 沈德忠 王晓青 袁欣
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: CLBO晶体 离子束刻蚀 表面粗糙度 原子力显微镜
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 页码范围: 102-106
• 页数: 5页
• 分类号: O786
• 字数: 2233字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2005.01.023

摘要

本文研究了在不同作用时间、不同工件转速、不同入射角度等条件下离子束对CLBO晶体抛光表面的处理效果.用原子力显微镜来观察和比较了CLBO晶体抛光表面处理前后的形貌和粗糙度.试验结果显示,离子束刻蚀的时间并非越长越好;较大的工件转速使晶体表面粗糙度变大;当离子束入射角度在30～60°之间时,处理后晶体表面粗糙度均变小,90°入射时,粗糙度明显增大.试验证明,离子束处理对晶体抛光表面粗糙度Rz值影响较之Ra值更大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈光球	清华大学化学系	16	148	6.0	11.0
2	王晓青	清华大学化学系	22	150	7.0	11.0
3	沈德忠	清华大学化学系	18	98	6.0	8.0
7	袁欣	清华大学化学系	7	18	3.0	4.0