Ta种子层厚度及溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜各向异性磁电阻和矫顽力的影响

• 作者: 于广华 张辉 滕蛟 胡强 马纪东
• 来源期刊: 北京科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: Ta种子层 溅射速率 各相异性磁电阻 矫顽力 (111)织构
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 458-461
• 页数: 4页
• 分类号: TM271
• 字数: 3323字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-053X.2005.04.017

摘要

研究了Ta种子层的厚度、溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜各向异性磁电阻值(△p/p)、矫顽力和织构的影响.研究表明,适当的Ta层厚度和较高的Ta层溅射速率对提高Ta/Ni65Co35双层膜的△p/p是有效的.Ta种子层的使用增大了Ta/Ni65Co35双层膜的矫顽力而其溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜矫顽力的影响很小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于广华	北京科技大学材料科学与工程学院	88	372	9.0	14.0
2	张辉	北京科技大学材料科学与工程学院	195	2226	23.0	39.0
6	滕蛟	北京科技大学材料科学与工程学院	37	132	6.0	9.0
10	马纪东	北京科技大学材料科学与工程学院	9	52	4.0	7.0
11	胡强	北京科技大学材料科学与工程学院	3	3	1.0	1.0