压应力作用下Cu-Ta非晶薄膜表面纳米晶化的可能机制

• 作者: 曾飞 李凌 李晓伟 潘峰 高阳
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: Cu-Ta非晶薄膜 纳米压痕 纳米晶化
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜材料与表面技术
• 页码范围: 747-751
• 页数: 5页
• 分类号: TN65
• 字数: 4050字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2005.05.034

摘要

用磁控溅射技术制备了Cu-Ta合金非晶薄膜, 并采用扫描电子显微镜研究了压应力导致非晶薄膜表面形变和纳米晶化现象.结果表明: 在纳米压头的作用下, 非晶薄膜表面压痕的锯齿流边沿处形成了纳米级颗粒(纳米晶化)结构, 且压痕外沿的颗粒尺寸大于内沿的颗粒尺寸.导致上述微观结构变化的主要原因可能是非晶自由体积流变膨胀过程中, 压头的压应力使材料内部自由体积发生移动, 在非晶基体中汇集成一些空位或气团, 纳米晶粒在这些空位或气团处形核并长大;当气团积累到一定体积发生爆裂, 导致屈服变形, 纳米晶粒被挤到压痕锯齿流的前沿.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	潘峰	清华大学材料系先进材料教育部重点实验室	30	196	6.0	13.0
2	曾飞	清华大学材料系先进材料教育部重点实验室	12	14	2.0	3.0
3	高阳	清华大学材料系先进材料教育部重点实验室	27	252	10.0	15.0
4	李凌	清华大学材料系先进材料教育部重点实验室	11	15	2.0	3.0
5	李晓伟	清华大学材料系先进材料教育部重点实验室	22	73	6.0	8.0