喷雾热解法制备掺锑氧化锡透明导电膜

• 作者: 王东
• 来源期刊: 无机盐工业
• 关键词: 氧化锡 喷雾热分解 四氯化锡 三氯化锑
• 年，卷（期）: 2005,（11）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 29-31
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-4990.2005.11.010

摘要

以四氯化锡和三氯化锑为原料,采用喷雾热分解的方法在片状日用玻璃基材和石英玻璃基材上制得掺锑氧化锡(ATO)透明导电薄膜.运用XRD和SEM分别对薄膜的结构和形貌进行了表征.研究了锑的掺杂量、成膜温度和沉积时间对薄膜方阻和在可见光范围内的平均透过率的影响.实验结果表明,当三氯化锑的掺杂量为四氯化锡的8%(物质的量分数)、成膜温度为550℃、喷涂时间为12 s时,可使所得薄膜的方阻达最低,为40Ω/□,可见光范围内的平均透过率为70%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王东		1	2	1.0	1.0