用单摆冲击划痕法测定膜基界面结合强度

• 作者: 黄林国
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 单摆冲击划痕法 Ni-P化学镀层 动态加载 界面结合强度
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 19-21
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.1
• 字数: 2755字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2005.01.007

摘要

膜和基体之间界面结合强度是评价膜层质量很重要的性能指标.采用单摆冲击划痕法对膜基界面结合强度进行了定量研究.单摆冲击划痕法具有动态加载的特性,可从力和能量两个方面获得膜基破坏过程信息,用其测定的膜基界面单位面积所消耗的能量ε可用来定量表征膜基界面结合强度.研究结果表明,提高镀层磷含量、选择合适的基材表面粗糙度(Ra≈0.4μm)和合适的热处理温度(400℃)有利于提高Ni-P化学镀层的界面结合强度和临界法向载荷.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄林国		18	89	5.0	9.0