Zr过渡层对Al膜微结构与性能的影响

• 作者: 刘明 李冬梅 潘峰 牛洁斌 王旭波
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 工学
• 关键词: Al膜 Zr过渡层 附着力 电阻
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 单晶、薄膜及其他功能材料
• 页码范围: 152-155,163
• 页数: 5页
• 分类号: TN65
• 字数: 3156字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-2474.2005.02.018

摘要

为了增加高频声表面波器件用Al薄膜的功率承受力以及与基体的附着力,同时不增加薄膜在化学反应刻蚀中的难度,并精确地控制图形的尺寸,采用电子束蒸镀法研究了Zr过渡层和薄膜固化工艺对Al膜微结构、形貌、电性能及机械性能的影响.结果表明,适当厚度(5～30 nrn)的Zr过渡层增强了Al膜的(111)织构,增加了薄膜与LiNbO3基体的结合力,200℃固化后电阻率明显降低.拥有Zr过渡层的Al膜具有良好的工艺性能,通过反应离子刻蚀易获得精确的换能器图形.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘明	中国科学院徽电子研究所	207	1983	20.0	38.0
2	牛洁斌	中国科学院徽电子研究所	12	43	4.0	6.0