下一代光刻技术

• 作者: 余国彬 佟军民 胡松
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 下一代光刻技术 浸没式光刻技术 极端远紫外光刻技术 纳米压印光刻技术 无掩模光刻技术
• 年，卷（期）: 2005,（11）
• 所属期刊栏目: 专题报道(半导体制造设备)
• 页码范围: 27-33
• 页数: 7页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 5522字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2005.11.010

摘要

介绍了下一代光刻技术的演变,重点描述了浸没式光刻技术、极端远紫外光刻技术、纳米压印光刻技术和无掩模光刻技术的基本原理、技术优势、技术难点以及研发,并展望了这几种光刻技术的前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡松	中国科学院光电技术研究所	93	705	12.0	24.0
2	佟军民	中国科学院光电技术研究所	9	48	4.0	6.0
6	余国彬	中国科学院光电技术研究所	22	129	7.0	10.0