利用合适的相干因子提高光刻仿真准确性

• 作者: 何乐 储兆祥 张强 李小平 高少文
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 仿真 PROLITH 相干因子 光瞳
• 年，卷（期）: 2005,（12）
• 所属期刊栏目: 光刻技术
• 页码范围: 59-64
• 页数: 6页
• 分类号: TN305
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2005.12.016

摘要

利用光刻仿真软件PROLITH,进行了掩模版空间成像的焦深(DOF)和光学临近效应的仿真.理论上分析了照明光瞳相干因子定义法:10%能量法和10%～90%积分能量法,并发展了因子矫正法.仿真中分别代入了这三种定义法得到的照明光瞳相干因子,通过比较这三种情况与代入真实光瞳的仿真结果,发现利用因子矫正法定义真实照明光瞳的相干因子,比其它两种定义法得到的仿真结果与真实结果最接近,从而提高了仿真的准确性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高少文		1	1	1.0	1.0
2	李小平		1	1	1.0	1.0
3	何乐		1	1	1.0	1.0
4	储兆祥		1	1	1.0	1.0
5	张强		1	1	1.0	1.0