硅晶体中点缺陷结合过程的分子动力学研究

• 作者: 乔永红 王绍青
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 分子动力学 空位与间隙原子 扩散
• 年，卷（期）: 2005,（10）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 4827-4835
• 页数: 9页
• 分类号: O4
• 字数: 3864字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.10.063

摘要

采用分子动力学方法模拟研究了硅晶体中的空位和间隙原子的结合过程.研究中采用了Stilliget-Weber三体经验势描述原子间的相互作用,系统分别在低温300K和高温1400K进行弛豫.计算中发现空位和间隙原子倾向于通过<111>方向结合,而<110>方向上存在着势垒.通过势垒值的计算,对Tang和Zawadzki势垒计算值的差异进行了解释.