光反射法微摩擦测试仪

• 作者: 于正林 刘治华 吴一辉 贾宏光 黎海文
• 来源期刊: 中国机械工程
• 关键词: MEMS 微摩擦测试 光反射法 硅传感器 线阵CCD
• 年，卷（期）: 2005,（14）
• 所属期刊栏目: 微纳加工与测试及封装技术
• 页码范围: 1299-1302
• 页数: 4页
• 分类号: TN06
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-132X.2005.14.023

摘要

为研究MEMS的微摩擦需设计一种能够测量微米尺度样品摩擦特性的专用仪器,尤其是能进行微机构摩擦力和正压力测试的大范围、高灵敏度的微摩擦检测装置.给出了一种基于光反射法的微摩擦测试仪的设计方法,介绍了该仪器的设计原理、测力传感器的结构设计、仪器的标定方法.硅测力传感器采用MEMS工艺制作,具有变形量大、线性度好、灵敏度高等优点.实验结果表明,该测试仪能满足微机电系统微摩擦测试的需要.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贾宏光	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	120	1499	18.0	33.0
2	吴一辉	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	126	1121	18.0	27.0
3	黎海文	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	26	202	9.0	13.0
4	于正林	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	2	14	1.0	2.0
5	刘治华	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	3	21	2.0	3.0