纯锆上离子注入钇和镧后的表面分析

• 作者: 孙辉 彭德全 潘峰 白新德
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 纯锆 钇和镧离子共注入 卢瑟福背散射 x射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2005,（12）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 5914-5919
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 字数: 3116字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.12.070

摘要

用金属蒸汽真空弧源,以40 kV加速电压对纯锆样品分别进行了1016-1017/cm2的钇、镧离子注入,注入温度约为130℃.然后对注入样品进行表面分析.x射线光电子能谱分析表明,注入的钇以Y2O3形式存在,镧以La2O3形式存在.俄歇电子能谱表明,纯锆基体表面的氧化膜厚度随着离子注入剂量的增加而增加,当离子注入剂量达到1017/cm2时,氧化膜的厚度达到了最大值.卢瑟福背散射显示镧层的厚度约为30 nm,同时直接观察到当离子注入剂量为(La+Y)1017/cm2时,纯锆样品表面发生了严重的溅射.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	白新德	清华大学材料科学与工程系	68	762	16.0	24.0
2	潘峰	清华大学材料科学与工程系	30	196	6.0	13.0
3	彭德全	清华大学材料科学与工程系	18	134	6.0	10.0
4	孙辉	清华大学材料科学与工程系	1	2	1.0	1.0