CVD温度对钼沉积层组织及性能的影响

• 作者: 周美玲 毕安园 王从曾 马捷
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积 钼 显微组织
• 年，卷（期）: 2005,（12）
• 所属期刊栏目: 材料工艺
• 页码范围: 1965-1968
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.444|TG113.12
• 字数: 2395字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-185X.2005.12.029

摘要

介绍了化学气相沉积法(CVD)制备难熔金属钼膜层的原理和方法.以MoF6和H2为原料,采用化学气相沉积法在纯铜基体上沉积出难熔金属钼膜层.分析研究了沉积层的组织、结构和硬度.实验结果表明:沉积膜层显微组织随沉积温度变化而不同,沉积温度较低时,沉积层显微组织为细晶层状结构,沉积层硬度可达677×9.8 MPa;沉积温度较高时,沉积层显微组织为致密的柱状晶,硬度稍高于一般烧结钼的硬度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马捷	北京工业大学功能材料教育部重点实验室	39	235	9.0	13.0
2	毕安园	北京工业大学功能材料教育部重点实验室	2	16	1.0	2.0
3	王从曾	北京工业大学功能材料教育部重点实验室	37	306	11.0	16.0
4	周美玲	北京工业大学功能材料教育部重点实验室	130	2123	22.0	42.0