镀铂栅极抑制电子发射性能研究

• 作者: 任琮欣 冯涛 张福民 柳襄怀 江炳尧 王曦 蒋军 邹世昌
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 电子发射 离子束辅助沉积 钼栅极 铂膜
• 年，卷（期）: 2005,（11）
• 所属期刊栏目: 材料工艺
• 页码范围: 1810-1813
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.4
• 字数: 2690字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-185X.2005.11.032

摘要

利用离子束辅助沉积(IBAD)方法在Mo栅极表面上沉积Pt膜,采用试验二极管方法测量和比较阴极活性物质Ba,BaO蒸发到镀铂栅极和纯钼栅极表面上后的电子发射性能.采用XRD,EDX,XPS等测试手段对其栅极表面进行对比分析和表征.实验结果表明:镀铂栅极具有明显的抑制电子发射性能,并初步探讨了离子束辅助沉积Pt膜抑制栅电子发射的机理.