直流磁控溅射Cr/Cr2O3金属陶瓷选择吸收薄膜的研究

• 作者: Y.Yin 潘永强
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 直流磁控溅射 选择吸收 金属陶瓷 薄膜
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 517-521
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 4331字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.06.018

摘要

光谱选择吸收薄膜的制备是太阳能集热器高效吸收太阳能的关键技术.本文首先研究了磁控溅射Cr/Cr2O3金属陶瓷选择吸收膜中,氧气流量、溅射靶电流等基本参数对靶电压的影响,然后对不同氧气流量和靶电流条件下制备的Cr/Cr2O3金属陶瓷选择吸收膜的光学常数采用椭偏仪进行了研究,得到了不同工艺条件下的Cr/Cr2O3金属陶瓷薄膜的光学常数,最后经过膜系设计和试验镀制,制备出了室温下吸收率α≥ 95%、发射率ε≤5%的高性能太阳能选择吸收膜.