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真空科学与技术学报期刊
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905

真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名： 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
出版文献量（篇）
4084
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19905
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  • 1. 基于p+-Si与n-ZnO纳米线的p-n异质结的制备及其性质研究
    作者： 叶春暖 孙大林 张晶 徐华华 方方 朱健 沈浩镲 邢晓艳 郑凯波 陈国荣
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  163-167
    摘要： 利用CVD蒸汽俘获法,在p+硅片上制备了垂直生长的n型ZnO纳米线阵列,用XRD和SEM分析了样品的结构与形貌.测试发现样品的Ⅰ-Ⅴ曲线符合典型的p-n异质结特性,正向开启电压为0.5 V,...
  • 2. ICP-CVD制备高质量疏水性碳氟聚合物薄膜的研究
    作者： 刘理天 吴建刚 岳瑞峰 康明 曾雪锋
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  168-171
    摘要： 在室温下以c-C4F8为反应气体,采用电感耦合等离子体化学气相淀积(ICP-CVD)法制备出碳氟聚合物薄膜,研究了工艺条件与薄膜的光、电性能和结构与疏水性的相关性.结果表明,薄膜结构均匀致密...
  • 3. GaAs光电阴极制备过程中多信息量测试技术研究
    作者： 常本康 王世允 王惠 邹继军 钱芸生
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  172-175
    摘要： 研制了一套基于现场总线技术的GaAs光电阴极多信息量测试系统,该系统可在线测试和保存阴极制备过程中的大部分信息量,如激活系统的真空度、阴极光电流、光谱响应曲线、Cs源和O源电流等.实验测试了...
  • 4. 脉冲偏压下电弧离子镀等离子体负载的等效电路模型及其定量表征
    作者： 戚栋 林国强 王宁会 董闯
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  176-180
    摘要： 为了解决电弧离子镀(AIP)工艺中脉冲偏压电源与AIP等离子体负载间的匹配问题,结合脉冲偏压下AIP工艺实验,运用等离子体鞘层理论、电路理论和仿真模拟技术,得到AIP等离子体负载本质上是由鞘...
  • 5. 沉积角度对MgO介质保护膜性能的影响
    作者： 刘纯亮 夏星 范玉锋
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  181-184
    摘要： 由于介质保护膜的特性极大地影响交流等离子体显示器(AC-PDP)的寿命、功耗和显示质量,所以研究介质保护膜的制备工艺是十分重要的.本文利用电子束加热蒸镀法,在不同沉积角度下制备了MgO介质保...
  • 6. 射频等离子体中绝缘基片上自偏压的研究
    作者： Y.Yin 潘永强
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  185-189
    摘要： 在薄膜沉积和离子束刻蚀技术中,通常要给绝缘基片加上一个射频或脉冲电极,以便在绝缘基片上形成一个自偏压来控制轰击到绝缘基片表面的离子能量.由于绝缘基片上的自偏压不便于测量,在研究中,大多采用射...
  • 7. 掺氮二氧化钛薄膜的常压化学气相沉积及其结构性能研究
    作者： 张溪文 郭玉 韩高荣
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  190-194
    摘要： 用常压化学气相沉积(APCVD)法,以四氯化钛(TiCl4)、氧气(O2)和氨气(NH3)作为气相反应先驱体,成功制备了掺氮二氧化钛(TiO2)薄膜.XRD、XPS和UV-Vis透射光谱研究...
  • 8. 退火温度与ZAO透明导电薄膜晶体结构及特性关系的研究
    作者： 叶勤 吴奎
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  195-199
    摘要： 用射频磁控溅射ZAO陶瓷靶的方法在石英衬底上成功制备了ZAO透明导电薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、紫外可见(UV-Vis)分光光度计、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)等手段...
  • 9. 反应溅射Zr-Si-N复合膜的微结构与力学性能
    作者： 刘艳 张利中 李戈扬 董云杉 黄家桢
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  200-203
    摘要： 在Ar、N2混合气氛中,通过双靶反应磁控溅射方法制备了一系列不同Si含量的Zr-Si-N复合薄膜,采用EDS、XRD、SEM、AFM和微力学探针表征了复合膜的成分、相组成、微结构和力学性能....
  • 10. H2对彩色AC-PDP中Ne-Xe混合气体放电性能的影响
    作者： 孙鉴 郭滨刚 魏巍
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  204-206
    摘要： 使用AC-PDP宏放电单元测试了AC-PDP放电单元加入少量H2对Ne-Xe混合气体放电性能的影响.结果表明,Ne-Xe混合气体中加入少量H2时会显著改变AC-PDP的着火电压、维持电压和放...
  • 11. 超长单晶硅纳米丝的化学气相沉积法制备
    作者： 刘志洪 尉永玲 杨德仁 汪雷
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  207-209
    摘要： 采用化学气相沉积法在镀金硅片上制备出了大量直径均匀、长度大于100 μm的单晶纳米硅丝.采用场发射扫描电镜(FESEM)、能谱分析(EDX)、透射电镜(TEM)和拉曼光谱(Raman)对样品...
  • 12. 交换耦合双层膜PtMn/Co的微观结构和磁性
    作者： 展晓元 张跃 李建民 郑小兰 顾有松
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  210-213
    摘要： 采用磁控溅射法在Si(100)基片上沉积了PtMn/Co双层膜,研究退火温度与样品微结构以及磁性的关系,发现退火温度越高,反铁磁性PtMn层由fcc非磁性相向fct反铁磁性相转变越充分,交换...
  • 13. 新型表面波等离子体源的诊断及不同工艺条件下的等离子体特性
    作者： 上坂裕之 刁东风 徐均琪 梅原德次
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  214-218
    摘要： 表面波等离子体(Surface-wave-sustained plasma,SWP)是近年发展起来的一种新型低压、高密度等离子体.应用这种技术,很容易实现镀膜过程中的离子束辅助沉积(IBAD...
  • 14. 真空热处理对CoFe薄膜结构及电磁特性的影响
    作者： 吴平 潘礼庆 白翠琴 谭红革 邱宏
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  219-222
    摘要： 在本底真空度优于5×10-4 Pa的室温条件下,利用电子束蒸发方法沉积CoFe薄膜,研究了不同退火温度对CoFe薄膜结构和电磁特性的影响.样品采用热氧化Si为基片,在3×10-5 Pa真空度...
  • 15. 空心阴极N2+等离子体放电电子温度的研究
    作者： 余晋勇 刘燕萍 徐重 王建忠 隗晓云 高原
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  223-227
    摘要： 利用双层辉光放电空心阴极效应,针对N2发射光谱相对强度的变化,采用SⅡ-Ⅳ型全息凹面光栅单色仪对各种工艺参数条件下的光谱进行测绘,获得一系列谱线及测量数据.通过玻尔兹曼方程式求得不同工艺条件...
  • 16. 增强型脉冲离子源镀制DLC薄膜拉曼光谱研究
    作者： 朱昌 郭芮 陈朝平
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  228-231
    摘要： 本文利用增强型脉冲电弧离子源在硅基底上沉积类金刚石薄膜,拉曼光谱分析表明DLC薄膜中sp3键含量比不加磁过滤装置时脉冲离子源所镀的类金刚石薄膜高,折射率更接近金刚石折射率2.4并且光学带隙也...
  • 17. 真空管道自体溅射镀TiN膜研究
    作者： 尉伟 张耀锋 王勇 王建平 耿会平 范乐 赵飞云
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  232-235
    摘要： 本文详细介绍了长真空管道内表面直流溅射镀TiN膜技术和成膜系统配置.采用真空管道自体真空镀膜方法解决细长管道内表面镀膜问题,特殊的阴极靶结构设计成功地解决了长管道内表面直流溅射镀膜的问题.本...
  • 18. 金属诱导生长多晶锗硅薄膜的电学性能研究
    作者： 刘国军 叶志镇 吴贵斌 赵星 赵炳辉
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  236-239
    摘要： 采用超高真空化学气相沉积与金属诱导相结合的方法生长多晶SiGe薄膜.530℃下,金属Ni先与SiGe反应生成Ni硅化物,直至Ni被完全消耗完,接着多晶SiGe薄膜在Ni硅化物上异质生长;首次...
  • 19. 用于空间行波管的高效率覆膜阴极组件的研究
    作者： 刘燕文 刘胜英 孟明凤 张明晨 张洪来 徐振英 田宏
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  240-242
    摘要： 首先设计并研制出符合空间行波管要求的高效覆膜阴极组件,采用高温钨-钴焊料,将阴极焊接在阴极筒上,增加了阴极的耐冲击性能,阴极组件采用两层热屏,第一层热屏采用热传导率低的金属钛,提高了阴极组件...
  • 20. Cl2/BCl3 ICP刻蚀蓝宝石研究靠
    作者： 宋颖娉 沈光地 艾伟伟 董立闽 郭霞
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  243-246
    摘要： 由于GaN单晶制备比较困难,通常氮化物光电子器件都是制备在蓝宝石衬底上的,而氮化物和蓝宝石大的晶格失配和热膨胀系数的差别,使得在衬底上生长的氮化物材料位错和缺陷密度较大,影响了器件的发光效率...
  • 21. 在空心微珠表面磁控溅射镀金属薄膜的研究
    作者： 俞晓正 徐政 沈志刚
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  247-250
    摘要： 本文论述了在空心微珠表面磁控溅射镀金属薄膜的方法.用光学显微镜、场发射扫描电子显微镜、能谱仪和X射线衍射仪对其进行了分析表征.溅射镀膜时,通过控制空心微珠的运动方式,在空心微珠表面沉积了一层...
  • 22. 线形微波等离子体CVD金刚石薄膜沉积技术
    作者： 唐伟忠 耿春雷 蒋开云 黑立富
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  251-254
    摘要： 本文将讨论一种新型的微波等离子体CVD设备--线形微波等离子体CVD设备和其在金刚石薄膜制备技术中的应用.利用Langmuir探针方法对线形微波等离子体CVD设备产生的H2等离子体进行的等离...
  • 23. IBAD制备非晶碳膜与CrN镀层的耐磨性能比较及机理分析
    作者： 杜军 田林海
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年3期
    页码:  255-258
    摘要： 采用离子束辅助溅射沉积(IBAD)法,在高速钢基体上制备非晶碳膜(α-C)及CrN镀层,对两者的耐磨性能分析比较,并对其耐磨机理进行分析.结果表明:非晶碳膜的耐磨性能优于CrN镀层;文中讨论...

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

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