反应溅射Zr-Si-N复合膜的微结构与力学性能

• 作者: 刘艳 张利中 李戈扬 董云杉 黄家桢
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Zr-Si-N薄膜 反应溅射 微结构 力学性能
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 200-203
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3022字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.03.009

摘要

在Ar、N2混合气氛中,通过双靶反应磁控溅射方法制备了一系列不同Si含量的Zr-Si-N复合薄膜,采用EDS、XRD、SEM、AFM和微力学探针表征了复合膜的成分、相组成、微结构和力学性能.结果表明:随着Si的加入,Si3N4界面相形成于ZrN晶粒表面并阻止其长大.低Si含量下,晶粒的细化使Zr-Si-N薄膜得到强化,在Si含量为6.2at%时其硬度和弹性模量分别达到最高值29.8 GPa和352 GPa.继续增加Si的含量,薄膜逐渐向非晶态转变,同时产生ZrxSiy相,并伴随有明显的力学性能降低.Zr-Si-N薄膜力学性能增加受到限制,可能与Si3N4界面相和ZrN晶粒之间的低润湿性有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董云杉	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	16	108	6.0	9.0
2	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
3	刘艳	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	92	288	10.0	13.0
4	张利中	华东理工大学分析测试中心	7	178	5.0	7.0
5	黄家桢	华东理工大学分析测试中心	6	162	5.0	6.0