沉积角度对MgO介质保护膜性能的影响

• 作者: 刘纯亮 夏星 范玉锋
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 等离子体显示器 保护膜 沉积角度 着火电压 结晶取向
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 181-184
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2852字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2006.03.005

摘要

由于介质保护膜的特性极大地影响交流等离子体显示器(AC-PDP)的寿命、功耗和显示质量,所以研究介质保护膜的制备工艺是十分重要的.本文利用电子束加热蒸镀法,在不同沉积角度下制备了MgO介质保护膜和宏单元气体放电屏.利用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对制备的介质保护膜样品的微观结构和表面特征进行了表征,并且,利用宏单元气体放电实验屏研究了介质保护膜的气体放电特性.结果表明:在沉积角度为15°下制备的MgO介质保护膜,薄膜的着火电压最低,晶粒最大,并且结晶取向最强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘纯亮	西安交通大学电子物理与器件研究所	124	527	9.0	16.0
2	范玉锋	西安交通大学电子物理与器件研究所	14	32	3.0	4.0
3	夏星	西安交通大学电子物理与器件研究所	7	15	3.0	3.0