电子束曝光数据格式的改进设计与实现

• 作者: 刘伟 张今朝 李晓娜 韩立 魏淑华
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束曝光 图形发生器 图形文件格式 套刻
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 电子束技术
• 页码范围: 6-10
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7|TP319
• 字数: 3788字
• 语种: 中文

摘要

根据中国科学院电工研究所研制的DY-2000型实用化电子束曝光系统对曝光图形数据格式的要求及用户的需要,对原曝光文件格式(EDF)进行了改进,利用VC+ +6.0开发环境实现了EDF格式文件的图形创建、结构体引用以及文件保存,同时增加了多层图形套刻和邻近效应修正数据处理的功能.实验结果表明,改进后的电子束曝光图形文件格式可满足用户的需求,便于用户新建版图文件,同时也提高了文件传输速度及曝光的效率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘伟	中国科学院电工研究所	422	5903	37.0	59.0
2	魏淑华	中国科学院电工研究所	4	9	2.0	3.0
6	张今朝	中国科学院电工研究所	8	16	2.0	3.0
7	韩立	中国科学院电工研究所	98	376	9.0	13.0
8	李晓娜	中国科学院电工研究所	12	56	4.0	7.0