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摘要:
芯片的超薄化发展,正在逐步整合半导体材料加工设备及其相应工艺.简要概述了芯片超薄化发展之动态,并以超薄芯片的减薄加工为中心,综合研究了影响超薄芯片机械特性、表面质量的主要因素,讨论了超薄晶圆片的最新加工技术.
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文献信息
篇名 超薄化芯片
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 超薄芯片 损伤层 粗糙度 总厚度误差(TTV) 芯片强度崩边 背面减薄 延性域
年,卷(期) 2006,(11) 所属期刊栏目 专题报道(IC制造技术)
研究方向 页码范围 13-18
页数 6页 分类号 TN30
字数 5522字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2006.11.004
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研究主题发展历程
节点文献
超薄芯片
损伤层
粗糙度
总厚度误差(TTV)
芯片强度崩边
背面减薄
延性域
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
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