浸没式ArF光刻中杂散光影响的研究

• 作者: 张飞 李艳秋
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 杂散光 偏振 浸没光刻 工艺窗口 Prolith 9.0
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 25-29
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3479字
• 语种: 中文

摘要

由于浸没液体和大数值孔径的引入,杂散光对光刻性能的影响更为显著和复杂,对杂散光进行分析和控制是获得良好光刻性能的关键之一.利用Prolith 9.0软件研究了不同数值孔径(NA)条件下,浸没式ArF光刻中杂散光对65 nm特征图形的光强分布、图像对比度、线宽均匀性、图形位置误差和工艺窗口的影响,研究结果表明,大数值孔径会导致光刻性能对杂散光更为敏感.同时还分析了偏振方向与曝光图形方向一致(Y偏振)的线偏振光对不同杂散光和数值孔径条件下的光刻工艺窗口的影响,研究结果表明,采用Y偏振光可以降低杂散光对工艺窗口的影响,使工艺窗口得到相应拓展,提高了光刻性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李艳秋	中国科学院电工研究所	35	388	12.0	18.0
2	张飞	中国科学院电工研究所	49	550	11.0	23.0