用于浸没式工艺的光刻胶研究进展

• 作者: 何鉴 盛瑞隆 穆启道
• 来源期刊: 影像科学与光化学
• 学科: 工学
• 关键词: 浸没式光刻 光刻胶 主体树脂 光致产酸剂
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 379-390
• 页数: 12页
• 分类号: TQ57
• 字数: 4568字
• 语种: 中文

摘要

浸没式光刻技术是在原干法光刻的基础上采用高折射率浸没液体取代原来空气的空间,从而提高光刻分辨率的一种先进技术. 此项技术的实际应用,为当前IC产业的飞速发展起到了关键的作用. 本文概述了浸没式光刻技术的发展历程和浸没式光刻胶遇到的挑战及要求;对浸没式光刻胶主体树脂、光致产酸剂及添加剂的研究进展进行了综述;最后对浸没式光刻胶的研究发展方向作了进一步的探讨及初步预测.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	盛瑞隆	中国科学院上海有机化学研究所	11	62	6.0	7.0
2	何鉴		2	6	2.0	2.0
3	穆启道		3	21	2.0	3.0