193 nm深紫外光刻胶用成膜树脂的研究进展

• 作者: 邱迎昕 马文超 魏孜博
• 来源期刊: 影像科学与光化学
• 关键词: 光刻胶 成膜树脂 曝光 分辨率 抗蚀刻性能
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 页码范围: 409-415
• 页数: 7页
• 字数: 2080字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7517/issn.1674-0475.191013

摘要

本文综述了用于193 nm深紫外光刻胶的主体成膜树脂的种类及常用合成单体的研究进展,包括聚(甲基)丙烯酸酯体系、环烯烃-马来酸酐共聚物(COMA)体系、乙烯醚-马来酸酐共聚物(VEMA)体系、降冰片烯加成聚合物体系、环化聚合物体系、有机-无机杂化树脂体系以及光致产酸剂(PAG)接枝聚合物主链型等,并分析了目前关于曝光、分辨率和抗蚀刻性能方面存在的问题及未来的发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邱迎昕		3	1	1.0	1.0
3	魏孜博		2	0	0.0	0.0
7	马文超		2	0	0.0	0.0