248 nm深紫外光刻胶

• 作者: 侯宏森 郑金红 黄志齐
• 来源期刊: 感光科学与光化学
• 学科: 化学
• 关键词: 化学增幅 KrF激光 深紫外光刻 248 nm光刻胶 主体树脂 酸催化 光致产酸剂
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 346-356
• 页数: 11页
• 分类号: O64
• 字数: 4586字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-0475.2003.05.005

摘要

本文从化学增幅技术的产生,深紫外248 nm胶主体树脂及PAG发展历程、溶解抑制剂、存在的工艺问题及解决途径多个方面综述了深紫外248 nm胶的发展与进步.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄志齐		7	78	5.0	7.0
2	郑金红		5	147	5.0	5.0
3	侯宏森		1	27	1.0	1.0