193 nm光刻胶的研制

• 作者: 文武 杨澜 焦小明 王艳梅 郑金红 陈昕 高子奇 黄志齐
• 来源期刊: 感光科学与光化学
• 学科: 化学
• 关键词: 193 nm 光刻胶 单体 主体树脂 光致产酸剂 配方
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 应用与发展
• 页码范围: 300-311
• 页数: 12页
• 分类号: O64
• 字数: 5379字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-0475.2005.04.009

摘要

从主体树脂的结构设计、单体的合成工艺、主体树脂的合成工艺、光致产酸剂的评价、配方研究等多个方面论述了193 nm光刻胶的研制工艺,合成出了多种适用的单体及多种结构的主体树脂,进行了大量的配方研究,筛选出了最佳配方.研制出的样品经美国SEMATECH实验室应用评价其最佳分辨率为0.1μm,最小曝光量为26 mJ/cm2,不但具有优异的分辨率和光敏性,而且还具有良好的粘附性和抗干法腐蚀性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄志齐		7	78	5.0	7.0
2	郑金红		5	147	5.0	5.0
3	陈昕		1	13	1.0	1.0
4	焦小明		1	13	1.0	1.0
5	杨澜		3	28	3.0	3.0
6	文武		2	30	2.0	2.0
7	高子奇		1	13	1.0	1.0
8	王艳梅		1	13	1.0	1.0