先进光刻胶材料的研究进展

• 作者: 李沙瑜 杨国强 王双青 田凯军 胡睿 许箭 陈力
• 来源期刊: 影像科学与光化学
• 学科: 化学
• 关键词: 光刻胶 193 nm光刻 EUV光刻 化学放大光刻胶 分子玻璃
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 417-429
• 分类号: O64|TN305
• 字数: 3674字
• 语种: 中文

摘要

本文简述了光刻技术及光刻胶的发展过程,并对应用于193纳米光刻和下一代EUV光刻的光刻胶材料的研究进展进行了综述,特别对文献中EUV光刻胶材料的研发进行了较为详细的介绍,以期对我国先进光刻胶的研发工作有所帮助.