光刻胶用底部抗反射涂层研究进展

• 作者: 刘仁 刘敬成 刘晓亚 王宽 穆启道 纪昌炜 郑祥飞
• 来源期刊: 影像科学与光化学
• 关键词: 光刻胶 光刻技术 底部抗反射涂层
• 年，卷（期）: 2016,（2）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 123-135
• 页数: 13页
• 字数: 4095字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7517/j.issn.1674-0475.2016.02.123

摘要

随着微电子工业的蓬勃发展,光刻技术向着更高分辨率的方向迈进,运用底部抗反射涂层有效消除光刻技术中的驻波效应、凹缺效应,提高关键尺寸均一性和图案分辨率,引起了广大研究者的关注.本文简要介绍了光刻胶和光刻技术,底部抗反射涂层的分类、基本原理、刻蚀工艺以及其发展状况.重点对底部抗反射涂层的最新研究进展进行了总结,尤其是碱溶型底部抗反射涂层在光刻胶中的应用研究,最后对底部抗反射涂层的发展前景和方向进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘晓亚	江南大学化学与材料工程学院	275	2088	22.0	30.0
2	刘仁	江南大学化学与材料工程学院	76	286	8.0	12.0
3	刘敬成	江南大学化学与材料工程学院	39	169	6.0	10.0
4	王宽	江南大学化学与材料工程学院	1	7	1.0	1.0
5	穆启道		8	17	3.0	4.0
6	郑祥飞		2	10	2.0	2.0
7	纪昌炜		1	7	1.0	1.0