含POSS光刻胶材料研究进展

• 作者: 严臣凤 尤凤娟 王力元 韩俊
• 来源期刊: 影像科学与光化学
• 关键词: 光致抗蚀剂 含POSS 光刻 耐蚀刻性
• 年，卷（期）: 2019,（5）
• 所属期刊栏目: 综述与论文
• 页码范围: 465-472
• 页数: 8页
• 字数: 2065字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7517/issn.1674-0475.190605

摘要

光致抗蚀剂又称光刻胶,是微电子加工过程中的关键材料.多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)是一种具有规则的笼型结构的聚合物增强材料,由POSS改性的聚合物实现了有机-无机纳米杂化,POSS刚性结构的引入阻碍了聚合物分子的运动,可以显著提高聚合物的玻璃化转变温度(Tg),降低聚合物的介电常数,提高聚合物的力学性能,也提高了含POSS光致抗蚀剂的耐蚀刻性.基于这些优点,含POSS的光刻胶材料得到广泛关注.本文对含POSS光刻胶的研究进展作了简要介绍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王力元	北京师范大学化学学院	22	78	5.0	8.0
2	尤凤娟	北京师范大学化学学院	1	0	0.0	0.0
3	韩俊	北京师范大学化学学院	1	0	0.0	0.0
4	严臣凤	北京师范大学化学学院	1	0	0.0	0.0