化学增幅型光刻胶材料研究进展

• 作者: 刘仁 刘敬成 刘晓亚 孙小侠 穆启道 郑祥飞
• 来源期刊: 影像科学与光化学
• 关键词: 化学增幅 光刻胶 感度 成膜树脂 反应机理
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 页码范围: 392-408
• 页数: 17页
• 字数: 5174字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7517/issn.1674-0475.191011

摘要

芯片集成度的提高促使光刻胶向高分辨率方向发展,光刻技术由紫外全谱曝光发展到单一短波长曝光,为满足光刻胶高感度、高分辨率的要求,化学增幅型光刻胶应运而生.“化学增幅”可以提高光刻胶的量子产率,增强光刻胶感度,在深紫外、极紫外光刻中得到广泛应用.而高性能树脂作为光刻胶的成膜剂,对光刻胶的性能有重要影响,不同的树脂结构对应不同的反应机理.本文重点对化学增幅型光刻胶中的脱保护、重排、分子内脱水、酯化缩聚、交联、解聚等反应进行了总结,并介绍了对应的树脂结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘晓亚	江南大学化学与材料工程学院	275	2088	22.0	30.0
2	刘仁	江南大学化学与材料工程学院	76	286	8.0	12.0
3	刘敬成	江南大学化学与材料工程学院	39	169	6.0	10.0
4	穆启道		8	17	3.0	4.0
5	郑祥飞	江南大学化学与材料工程学院	7	12	2.0	3.0
6	孙小侠	江南大学化学与材料工程学院	2	0	0.0	0.0