光刻胶光学性质的光谱椭偏测量方法研究

• 作者: 于靖 刘文德 王煜 郑春弟 陈熙 陈赤
• 来源期刊: 计量学报
• 学科: 工学
• 关键词: 计量学 光刻胶 曝光 光学常数 光谱椭偏法
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 页码范围: 381-384
• 分类号: TB96
• 字数: 2134字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-1158.2011.04.20

摘要

利用相调制型光谱椭偏仪研究了光刻胶光学常数的测量方法,针对测量过程中光刻胶曝光控制优化了测量方案和仪器参数.对常见的S9912正型光刻胶,给出了曝光前后275～650 nm波段的光学常数.并采用动态椭偏法测量了所需波长下曝光前的光学常数.实验结果表明:该测量方法适用于光刻胶在紫外-可见-红外宽波段的光学性质研究,在光刻模拟、新型光刻胶材料研制及其光学性质表征等领域有重要实用价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王煜		37	211	6.0	13.0
2	于靖		19	83	5.0	8.0
3	郑春弟		22	163	6.0	12.0
4	刘文德		13	15	2.0	3.0
5	陈赤		16	34	3.0	5.0
6	陈熙	中国科学院半导体研究所纳米光电子实验室	2	11	1.0	2.0