248 nm深紫外光刻胶用成膜树脂的研究进展

• 作者: 邱迎昕 马文超 魏孜博
• 来源期刊: 影像科学与光化学
• 关键词: 光刻胶 成膜树脂 化学增幅型 曝光
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 页码范围: 430-435
• 页数: 6页
• 字数: 1953字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7517/issn.1674-0475.191014

摘要

综述了用于248 nm化学增幅型深紫外光刻胶的不同种类和结构的成膜树脂,以及所使用单体的研发进展,包括聚甲基丙烯酸甲酯及其衍生物、聚对羟基苯乙烯及其衍生物、N取代的马来酰亚胺衍生物,以及其他聚合物等,对不同结构成膜树脂的曝光条件、对光刻胶性能的影响进行了介绍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邱迎昕		3	1	1.0	1.0
3	魏孜博		2	0	0.0	0.0
7	马文超		2	0	0.0	0.0