一种新型紫外正型光刻胶成膜树脂的制备及光刻性能研究

• 作者: 刘建国 李平 谢文
• 来源期刊: 影像科学与光化学
• 学科: 化学
• 关键词: 紫外正型光刻胶 光刻
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 52-58
• 页数: 7页
• 分类号: O64
• 字数: 2915字
• 语种: 中文

摘要

本文合成了N-(p-羧基苯基)甲基丙烯酰胺单体,并将其与N-苯基马来酰亚胺共聚得到共聚物聚N-(p-羧基苯基)甲基丙烯酰胺共N-苯基马来酰亚胺(poly(NCMA-co-NPMI)).将此共聚物作为成膜树脂,与感光剂、溶剂等复配得到一种新型耐高温紫外正型光刻胶.本文探讨了该光刻胶的最佳配方组成和最佳光刻工艺.最佳配方组成为:15%-20%成膜树脂,4.5%-6% 感光剂和70%-80%溶剂;最佳光刻工艺为:匀胶30 s(4000 rpm),前烘4 min(90 ℃),感度为30-35 mJ/cm~2,在0.2%TMAH溶液显影10 s和后烘2 min(90 ℃).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李平	华中科技大学化学与化工学院	109	589	12.0	16.0
2	刘建国	华中科技大学化学与化工学院	117	790	13.0	21.0
3	谢文	华中科技大学化学与化工学院	18	135	7.0	11.0