一种248 nm光刻胶成膜树脂的合成及相关性能研究

• 作者: 刘建国 曾晓雁 蒋明
• 来源期刊: 影像科学与光化学
• 学科: 化学
• 关键词: 248 nm光刻胶 成膜树脂 聚对羟基苯乙烯-共-N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯-共-对特丁氧酰氧基苯乙烯
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 349-360
• 页数: 12页
• 分类号: O63
• 字数: 5801字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7517/j.issn.1674-0475.2013.05.349

摘要

通过自由基共聚合,制备了前驱体共聚物聚对特丁氧酰氧基苯乙烯-共-N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯,该共聚物可以通过热解而部分脱除酚羟基上的保护基,得到目标共聚物聚对羟基苯乙烯-共-N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯-共-对特丁氧酰氧基苯乙烯.通过对具有合适分子量的目标共聚物的有机溶剂溶解性、热性能、成膜性、抗干蚀刻能力和在248 nm处光学吸收(为0.212 μm-1)性能进行研究,表明该聚合物能满足248 nm光刻胶成膜树脂的要求;此外,目标共聚物还具有酸致脱保性能.具有合适分子量和脱保率的目标共聚物,通过对其酸解留膜率的测试,推测其可能满足248 nm光刻胶的曝光显影工艺过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋明	华中科技大学武汉光电国家实验室激光与太赫兹技术功能实验室	20	185	7.0	13.0
2	曾晓雁	华中科技大学武汉光电国家实验室激光与太赫兹技术功能实验室	144	2006	25.0	36.0
3	刘建国	华中科技大学武汉光电国家实验室激光与太赫兹技术功能实验室	117	790	13.0	21.0