一种适用于193 nm光刻胶的硫鎓盐光产酸剂的制备与性质

• 作者: 李华民 王力元 王文君
• 来源期刊: 感光科学与光化学
• 学科: 工学
• 关键词: 光产酸剂 光致抗蚀剂 化学增幅 硫鎓盐
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 48-54
• 页数: 7页
• 分类号: TQ57
• 字数: 3957字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-0475.2005.01.008

摘要

制备了一种阳离子含有萘基,阴离子分别为对-甲苯磺酸、甲磺酸及三氟甲磺酸的硫鎓盐.它们有高的热解温度和在常用有机溶剂中较好的溶解性.测定了此类光产酸剂在水溶液及聚乙二醇固体膜层中的紫外吸收特性.结果表明,阴离子不含苯基时,在193 nm处有很好的透明性.考察了其在低压汞灯照射下的光解性质,在254 nm附近的吸收峰随光解进行迅速减弱.此类光产酸剂适用于氟化氩激光(193 nm)等的化学增幅型光致抗蚀剂.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王力元	北京师范大学化学系	22	78	5.0	8.0
2	李华民	北京师范大学化学系	16	157	7.0	12.0
3	王文君	北京师范大学化学系	8	111	4.0	8.0