Shipley i7350xp光刻胶用于0.5μm孔光刻工艺的研究

• 作者: 周智刚
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: H.B. P.E.B 焦深容宽 孔光刻 通孔光刻
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 技术论文
• 页码范围: 24-26
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1220字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1681-1070.2002.05.006

摘要

本文介绍了Shipley i7350xp光刻胶用于0.5μm孔光刻工艺的研究,评估Shipley i7350xp光刻胶用于0.5μm孔光刻工艺层次的可行性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周智刚	无锡微电子科研中心二室	1	0	0.0	0.0