用DMD灰度曝光法产生连续面形微结构

• 作者: 杜惊雷 郭小伟 陈铭勇 马延琴
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 无掩模光刻 数字微反射镜 微透镜 阵列
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 18-21
• 页数: 4页
• 分类号: TN305
• 字数: 3087字
• 语种: 中文

摘要

利用空间光调制器光强的精确调制作用,把数字微反射镜阵列(DMD)作为灰度图形发生器,经一次曝光及优化显影等后处理过程,可制作出具有连续面形的微光学元件.用上述方法在实验上获得了微透镜阵列,并有较好的连续面形,符合预期效果.研究表明,该方法不仅可快速地实现连续面形微结构的加工,而且大大简化了制作工艺,有助于降低微光学元件的加工成本,适合于微结构的研究性制作或小批量生产,有广泛应用潜力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马延琴	四川大学物理与科学技术学院	6	45	5.0	6.0
2	杜惊雷	四川大学物理与科学技术学院	77	611	13.0	18.0
3	陈铭勇	四川大学物理与科学技术学院	8	78	6.0	8.0
4	郭小伟	四川大学物理与科学技术学院	11	114	6.0	10.0